|
Сотрудники |
|
|||
|
2. |
Ультрамягкая рентгеновская
спектроскопия Руководитель
профессор Елена Олеговна Филатова, 1.
Филатова Елена Олеговна Filatova Elena Olegovna 3.
Область научных интересов Основной
областью научных интересов является изучение механизмов и закономерностей
формирования электронного и атомного строения реальных, неизотропных
объектов, наноструктурированных материалов и
многослойных систем на основе тонких пленок (в том числе, границ раздела в
различных твердотельных контактах металл/оксид) применительно к задачам микро
и наноэлектроники, а также устройств энергонакопления. Определенное внимание уделяется
разработке неразрушающего послойного анализа (на базе данных, полученных
методами рентгеновской рефлектометрии и
фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий) многослойных структур с целью
определения профиля концентрации элементов по глубине образца. При
исследовании сложных многокомпозиционных систем
используется комплексный подход, объединяющий взаимодополняющие методы
исследования вещества, основанные на различных физических принципах. В работе
группы сочетаются возможности лабораторного спектрометра РСМ-500,
модифицированного для проведения спектрально-угловых зависимостей отражения,
рассеяния и выхода фотоэффекта, и использование оборудования центров
синхротронного излучения за рубежом. 4.
Список супер трудов за весь период научной деятельности 4.1 E Filatova, V Lukyanov, R Barchewitz, J-M Andr´e, M Idir and Ph Stemmler, “Optical constants
of amorphous SiO2 for photons in the range of 60–3000 eV”,
J. Phys.: Condens. Matter 11 (1999)
3355–3370. 4.2 E. O. Filatova, I.V. Kozhevnikov, A.A. Sokolov, Ch.7
(“Characterization of High-k Dielectric Internal Structure by X-Ray
Spectroscopy and Reflectometry: New Approaches to
Interlayer Identification and Analysis”) in ”High-k
Gate Dielectrics for CMOS Technology”, Gang He and Zhaoqi
Sun, Eds., Wiley-VCH Verlag. Weinhem,
Germany, 2012, pp.225-271 4.3 Elena. O. Filatova, Elena.Yu. Taracheva, Andrey A.Pavlychev, Ch.3
(“Hexagonal BN: chemical and structural effects on K-shells excitation. X-ray
polaroid effect”) in “Boron: Compounds, Production and Application”/ Ed. Gary
L. Perkins, Nova Science Publishers, Inc., New York, 2011 pp. 93-146. 4.4. Elena O. Filatova and Aleksei S. Konashuk,
“Interpretation of the Changing the Band Gap of Al2O3 Depending on Its
Crystalline Form: Connection with Different Local Symmetries”, J. Phys.
Chemistry C, 119 (2015) pp.20755−20761 5. Список публикаций 2014-2015 год 5.1. Elena O. Filatova and
Aleksei S. Konashuk”
Interpretation of the Changing the Band Gap of Al2O3 Depending on Its
Crystalline Form: Connection with Different Local Symmetries”, J. Phys. Chemistry
C, 119 (2015) pp.20755−20761 5.2. I.V.Kozhevnikov, E.O.Filatova, A.A.Sokolov,
A.S.Konashuk, F.Siewert, M.Störmer, J.Gaudin, B.Keitel, L.Samoylova and
H.Sinn, “Comparative study of the X-ray reflectivity and in-depth profile of
a-C, B4C and Ni coatings at 0.1-2 keV”, J. Synchrotron radiation, 22 (2015),
pp. 348-353 5.3.
М.А.Конюшенко, Е.О.Филатова,
А.С.Конашук, А.В.Нелюбов,
А.С.Шулаков. “Экспериментальное определение
положения потолка валентной зоны в ам-Al2O3 и гамма-Al2O3”, Письма в ЖТФ, 41,
№19 (2015) стр.8-15 5.4. Y.V.Egorova, T.Scherb, G.Schumacher, H.J.M.
Bouwmeester, E.O.Filatova. “Soft X-ray absorption spectroscopy study of
(Ba0.5Sr0.5)(Co0.8Fe0.2)1-хNbхO3- δ with
different content of Nb (5%-20%)”. J. of Alloys and Compounds, 650 (2015)
pp.848-852 5.5. E O Filatova, A P Baraban, A S Konashuk, M A
Konyushenko,A A Selivanov, A A Sokolov, F Schaefers and V E Drozd
“Transparent-conductive-oxide (TCO) buffer layer effect on resistive
switching process in metal/TiO2/TCO/metal assemblies”, New J. Physics. 16
(2014) 113014-113029 5.6. E.O. Filatova, I.V. Kozhevnikov, A.A. Sokolov,
A.S. Konashuk, F. Schaefers, M. Popovici, V.V. Afanas’ev "Application of
soft X-ray reflectometry for analysis of underlayer influence on structure of
atomic-layer deposited SrTixOy films", J. Electron Spectroscopy &
Related Phenomena, 196 (2014) 110-116 5.7. M.A. Konyushenko, A.S. Konashuk, A.A. Sokolov,
F. Schaefers, E.O. Filatova “Effect of thermal annealing and Al2O3-interlayer
on intermixing in TiN/SiO2/Si structure”, J. Electron Spectroscopy and
Related Phenomena, 196 (2014) 117-120 5.8.
В.Б. Божевольнов, А.М. Яфясов,
В.Ю. Миайловский, Ю.В. Егорова, А.А. Соколов, Е.О.
Филатова, “Электрофизические свойства многослойной структуры SiC−Si”, Физика и техника полупроводников, 2014,
том 48, вып. 6, cc.
814-817 |
|
|||
|
|
|
||||